오씨는 삼성전자가 독자적으로 개발한 20나노급 D램 기술 공정 700여개를 중국 반도체 업체 '청두가오전'에 넘긴 혐의를 받고 있다. 경찰은 수사 과정에서 18나노 D램 기술도 중국에 유출한 정황을 포착해 수사하고 있다. 청두가오전은 삼성전자 임원과 하이닉스 부사장을 지낸 최모씨가 2021년 중국 청두시로부터 거액을 투자받아 설립한 업체다. 최씨 또한 삼성전자 반도체 공장 설계도를 통째로 중국에 유출한 혐의로 구속됐으나 법원은 보석 보증금 5000만원으로 풀어줬다.
중국으로의 국가 핵심기술 유출은 반도체, K배터리 등을 가리지 않고 있다. 첨단기술의 초격차를 고민할 시기에 핵심기술이 중국으로 넘어가며 오히려 격차가 줄어들고 있는 것이 현실이다. 현행 산업기술보호법은 국가 핵심기술 해외유출의 법정형을 징역 3년 이상 최대 30년까지 처하도록 했으나 대법원 양형 기준은 징역 1년~3년 6개월에 불과하다. 그나마 징역 등 실형을 받는 사건은 10%에도 미치지 못하고 있다고 한다.
첨단기술을 통한 제조업으로 먹고사는 나라에서 핵심기술 유출 범죄에 법원은 솜방망이 처벌로 일관하고, 강력한 처벌법을 마련해야 할 정치권은 '남의 일'처럼 보고 있다. 이런 환경에선 '떼돈'을 버는 기술 유출 범죄를 막을 수 없다. 오씨의 영장 기각 뉴스에 국민은 걱정이 담긴 수십, 수백 개의 댓글을 달고 있다. 최근 몇 년간 기술유출 피해만 수십조원에 이르는데 사법부와 정치권이 이토록 한가해서야 되겠나.
중도일보(www.joongdo.co.kr), 무단전재 및 수집, 재배포 금지