특허청은 중국, 일본 특허청과 공동으로 16일 오전 9시에 서울 한국과학기술회관 SC 컨벤션센터에서‘한중일 디자인 포럼’을 개최했다. 올해로 8회차를 맞는‘한중일 디자인포럼’은 한국, 중국, 일본의 특허청 전문가들이 디자인보호와 관련된 주요 현안사항과 이에 대한 해결방안을 논의하기 위해 결성되었으며, 매년 3국이 순차적으로 개최하고 있다.
이날 이영대 특허청 차장의 개회사로 포럼이 시작됐다. 이해미 기자 ham7239@
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