美 특허출원 빨라질 듯... 내년부터 시범시행 합의

내년부터 미국 특허출원이 보다 편리해지고 빨라질 것으로 보인다.
한·미 양국 특허청은 두 나라에 공통으로 제출된 특허출원이 어느 한 나라에서 긍정적인 심사결과를 받으면 다른 국가에서는 해당 특허출원을 다른 것보다 우선해 심사하는 것을 내용으로 한 `한·미 특허심사하이웨이`를 내년 1월1일부터 시범 시행하기로 합의했다고 9일 밝혔다.

미국의 현행 평균 1차 심사처리기간은 22.6개월(2006년 기준)이지만 특허심사하이웨이를 이용해 출원인이 한국에서 미국으로 조기심사를 신청할 경우 13.6개월 앞당길 것으로 전망된다.

양국 특허청장은 오는 9월 스위스 제네바에서 회담을 갖고 `한·미 특허심사하이웨이` 합의서에 공식 서명할 예정이다.

한·미 특허심사하이웨이는 한·일 특허심사하이웨이에 이어 두번째 시행하는 것이다.