극나노 금형 대량복제시대 열린다

ETRI 10nm이하 미세 패터닝 복제기술 개발

극나노 기술의 신기원을 열 세계 최고 수준의 나노 금형 복제 기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.

ETRI(한국전자통신연구원, 원장 김흥남)는 10nm(머리카락 10000분의 1 굵기) 이하의 미세 패터닝이 가능한 나노 금형(mold)을 값싸게 대량 복제할 수 있는 원천 소재를 개발 했다고 24일 밝혔다.

이번 연구결과는 영국왕립화학회에서 지난 7일 발행한 신소재ㆍ재료 분야의 세계적 권위지인 『저널 오브 머티리얼스 케미스트리(Journal of Materials Chemistry』에 게재되는 등 연구의 독창성과 우수성을 대외적으로 입증했다.

이번에 개발된 원천기술을 이용하면 이형제(금형에서 떼어낼 때 벗겨내기 쉽도록 바르는 물질)를 따로 처리하지 않아도 금형을 쉽게 분리할 수 있다. 또 기계적 강도가 높아 반영구적으로 사용할 수 있으며, 유연성이 높아 평면뿐만 아니라 곡면 위에도 나노구조물을 제작할 수 있다.

이번에 개발된 복제 금형 재료는 임프린트 공정에서 기포 결함을 제거한 패턴 구현이 가능한 것으로, 종래 고가의 극자외선(EUV) 장비를 사용하는 공정 대신 단시간 내에 저비용으로 대량 생산이 가능하다는 경쟁 우위를 확보했다.

이번 연구를 주도한 이봉국 ETRI 박사는 “10nm 이하의 극나노 금형 복제 기술은 현재 전 세계적으로 미국, 일본 등 소수 국가만이 보유하고 있는 고난이도 기술이다”면서 “우리나라는 나노기술 강국의 면모를 전 세계에 각인시키게 될 것이다”라고 말했다.

권은남 기자