정부 R&D 특허 질적수준 낮아

우수비율 외국인에 30% 수준 … 계약당 기술이전 금액 감소세

● 최근 5년간 활용·관리 조사

정부 R&D 특허의 질적 수준이 국내에 출원한 외국인에 비해 낮고, 기술이전 규모는 크지 않아 개선이 필요한 것으로 나타났다.

특허청(청장 최동규)은 최근 5년(2010년~2014년)간 정부 R&D 사업으로 창출된 특허성과의 양적ㆍ질적 수준과 활용실태, 관리 현황 등을 조사·분석해 그 결과를 22일 발표했다.

이번 조사 결과를 보면, 정부 R&D 사업으로 창출된 국내 특허출원은 2014년 2만7005건으로 국내 특허출원 전체(21만288건)의 12.8%(2010년 10.6% 대비 2.2%p 증가)를 차지했다.

최근 5년간 연평균 약 10.7%씩 증가해 전체 특허출원 증가율(5.4%)의 2배였다. 특허생산성도 1.53으로 미국(공공연 0.26) 및 일본(대학 0.33)에 비해 크게 높았다. 이에 비해, 특허의 질적 수준은 다소 낮은 것으로 조사됐다.

최근 5년간 등록특허를 분석한 결과, 정부 R&D 우수특허(상위 3등급) 비율은 국내에 출원한 외국인의 30% 수준이었다. 또한, 정부 R&D 특허성과의 기술이전 건수는 2014년 2096건으로 최근 5년간 연평균 17.7%씩 급증했다. 이런 가운데 1000만원 미만의 소액 기술이전이 연평균 25.6%(2010년 309건→2014년 768건)로 빠르게 증가하고, 계약당 기술이전 금액도 감소 추세에 있어 개선 대책이 필요한 것으로 분석됐다.

특허청 관계자는 “이번 정부 R&D 특허성과 분석결과를 바탕으로 지원사업을 개선하고 내년에도 다양한 지원 정책을 추진할 계획”이라고 말했다.

박전규 기자 jkpark@